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概述CRF plasma工作溫度和產生等離子的必要條件
概述CRF plasma工作溫度和產生等離子的必要條件:
一、CRF plasma工作溫度
? ? ? ?盡管經過加工處理原料的幾秒鐘后,其工作溫度在60°-75°之間,但是這一數據資料是根據噴槍距離原料15毫米,輸出功率500W,與120mm的三軸速度相匹配。不過輸出功率,接觸時間段,加工處理的相對高度都是會對工作溫度有一定的直接影響。須要特別注意的是,大氣plasma噴槍作業時噴出的火焰分為內火焰和外火焰。我們清洗的時候基本都是用外火焰清洗。內火焰在噴嘴里,從表面看不見??墒羌偃缭趪姵鰜怼盎鹧妗钡那闆r下下長一段時間朝著某一個點不運作進行加工處理非常容易對表層造成燒灼。因此大氣低溫plasma的工作溫度要在實際的工作狀況下才可以測得具體的數據。
? ? ? ?而真空型plasma就沒這么繁雜,按主機電源輸出功率區分,40KHz和13.56兆赫茲為例:通常情況下情況下下原材料放進腔體內作業,輸出功率為4OKHz通常情況下工作溫度為65°之下,再者機器里邊配有強冷風扇,加工處理時間段不長的話,原材料外表溫度都是會跟室內溫度相同。輸出功率為13.56兆赫茲的就會更低,通常情況下情況下是30°之下。
因此加工處理某些遇熱易產生變形的原材料,低溫真空型plasma的是在再適宜不過了。
二、CRF plasma中等離子造成必要條件
? ? ? ?這些相對比較直接的就可以看得出,大氣型取決于連接的氣體,空氣壓力要做到0.2mpa之間才還可以造成離子。而真空型則取決于真空泵,造成離子前,即便不連接任何的外接的氣體,要將內腔里邊的真空度抽到25pa之下才可以造成離子。


誠峰plasma清洗機對少量油污的清潔的詳細步驟有哪些?
誠峰plasma清洗機對少量油污的清潔的詳細步驟有哪些?
第1步:plasma清洗機使用前需用鑷子取出一顆重油污金屬材料放在干凈白紙上。
第2步:調節移液槍在100ul刻度,吸取燒杯中的蒸溜水,漸漸地滴幾滴蒸溜水在重油污金屬材料上,觀察水滴形狀和鋪展情況。
第3步:plasma清洗機使用前需用鑷子取出第二顆重油污金屬材料,放到石英托盤上,打開腔門,把托盤和重油污金屬材料放入真空等離子清洗系統腔體里面(確保放置位置水平,保證金屬材料不易滑動),關閉腔門。
第4步:plasma清洗機使用前需點擊觸摸屏參數設定,設置清潔時間,按住開啟鍵,大慨三十秒后輝光開啟,調節功率旋鈕和注入氣體大?。ń涌諝猓?。
第5步:等待plasma清洗機清潔時間結束,卸壓結束,打開腔門,用鑷子取出清潔過后的金屬材料樣品,放到白紙上。
第6步:用移液槍漸漸地滴幾滴蒸溜水到清潔后的重油污金屬材料上,仔細觀察水滴形狀和鋪展情況。
? ? ? ? 然后,對比試驗結果,清潔前滴到金屬表面的水滴是圓形的,形成一滴水珠,接觸角大慨90度,清潔前金屬材料具有疏水性。誠峰plasma清洗機清潔后,用移液槍把水滴滴到金屬表面,水滴馬上鋪展開,接觸角明(顯)變小,金屬表面對水的鋪展能力——即濕潤性(明)顯(提)升,說明該金屬材料被等離子清洗之后親水性提高,更“干凈”了。


crf 等離子清洗設備在新能源有沒有實際的應用案例?
? ? ? ?crf 等離子清洗設備可用于物體表面清潔、蝕刻、表面活化改性等多種場合,通過等離子處理,可使新能源材料獲得潤濕性、增強粘結力、粘結力等,同時去除有機污染物,確保連接張力達到規范要求。
當前制作光伏組件的等離子處理大多是手工操作,耗時較長。且等離子槍與背板之間的距離無法精確控制,易造成背板損傷。光電背板離子體自動化改造是指安裝在電流微調工作臺上的清洗裝置。采用前排布置,控制方式從手動開始改為自動控制,連接到流水線上。零件就位后,等離子處理器會自動啟動,使各部分與接線盒區域相連接,使等離子加工機槍頭在裝配接線盒區域來回進料清洗加工,完成后自動放入堆棧。為提高構件與底板間的粘接強度,通常需要在黏合點使用crf 等離子清洗設備處理。
? ? ? ?本實用新型能自動處理生產線,提高了生產線的自動化程度,減少了繁雜的工作量,縮短了生產周期,實現了零件等離子處理的機械化操作,有效改善了等離子清洗效果。如干蝕物體表面可實現對物體表面的蝕刻、激活和清潔。它能顯著增強這些表面的粘度和焊接強度等離子體改變任何表面的能力都是安全、環保、經濟的。對于許多行業來說,這是一個可行的解決方案。
? ? ? ?太陽能電池板等離子清洗機鋰電池等離子表面處理設備crf等離子清洗設備廣泛應用于LED、LCD、LCM、手機天錢、手提電腦按鍵及外殼,攝像頭及數碼相機零組件,片、光纖、電路板、X-ray鏡片、UV/IR鏡片、光盤讀寫頭零組件、光學元件、精密模具、精密儀器以及包裝、印刷、紡織、塑料制品、生物材料、醫療器皿,半導體,太陽能光伏等行業......
crf 等離子清洗機技術很好地解決了覆膜紙、上光紙、淋膜紙、鍍鋁紙、UV涂料、聚丙稀、Pet等材質上的黏合不穩定或無法粘接。為了解決許多企業采用傳統的局部涂層、局部照明、表面拋光或漿糊線,使用特殊膠水來改善粘接方法,等離子技術也有效地解決了糊盒、糊盒生產的過程問題,保證了企業的過程、效率和質量。


借助于plasma技術可提升物體表面粘接、印刷、涂層等
借助于plasma技術可提升物體表面粘接、印刷、涂層等:
? ? ? ?如今很多PE、PP、ABS、PET等許多工業塑料表面不能充分浸潤,造成表面難以涂刷、印刷和粘合。甚至某些有機材料、金屬、硅橡膠等的涂布和粘合也常常很難,或需要花費大量資金使用專用聚合物。目前市面上很多借助于等離子技術,如提升物體表面粘接、印刷、涂層等,plasma清洗技術可以包括表面清潔、表面活化、表面能蝕變、改善表面潤濕性、粘接與粘結表面制備、表面改性及表面處理。
? ? ? ?首先等離子體激活常被用來處理粘結或印刷表面。等離子體的活化表面與高能物質接觸,分解聚合物,形成自由基。在工業生產中,清潔的概念非常廣泛,包括任何與污染物去除相關的環節,這些環節可以有效地清除材料上殘留的微塵、有機雜質和金屬離子而不會破壞其表面性質。常規清洗方法無法將材料表面薄膜全部清除,留下一層非常薄的雜質層,并引入新的雜質,同時難以對殘渣進行處理,消耗大量的酸水。
其次,plasma通過等離子體轟擊材料表面,對樣品表面進行溫和和綜合的修飾(親水性),同時plasma除去表面有機物質,以便在多個材料之間進行貼合、涂覆、鍍等環節。它既能清除表面污垢,又能增強材料表面的附著力。
最后,接下來為大家科普一下等離子體常見的幾個應用領域:
1、plasma用以汽車工業環節中的塑料和噴漆前處理;
2、聚合物及生物材料經活化、接枝法、表面包覆等表面腐蝕,plasma表面活化處理;
3、紡織產品---用以紡織品,過濾及膜親水、疏水及表面改性處理;
4、培養皿增強活性,血管支架,導管及各種材料親水性,plasma交合前處理;
5、plasma對薄膜、PP等材料進行無氧化活化處理,提高可焊性;
6、半導體工業晶片加工和加工去除光刻膠,封裝前的plasma預處理。
以上資訊希望對大家有所幫助,敬請關注深圳市誠峰智造有限公司相關資訊,值得您期待喔!
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國產CRFplasma設備與進口PLASMA設備的應用plasma設備分國產和進口兩種
? ? ? ?在我國CRFplasma設備與進口PLASMA設備的應用plasma設備分國產和進口兩種,主要根據用戶需求選擇配置。以下是國內CRFplasma設備與進口PLASMA設備在以下方面的應用:
? ? ? ?起初,在我國研發的CRFplasma設備(別稱等離子體設備)是一種非破壞性表面處理設備,主要采用能量轉換技術。當真空負壓確定時,氣體將電能轉化為高活性氣體等離子體,使氣體在固體樣品表面輕微沖刷,導致分子結構的變化,從而實現樣品表面有機污染物的超清潔處理。外部真空泵吸出時間短,清潔能力可達分子級。在一定條件下,樣品的表面性質也會發生變化。該方法采用氣體作為清洗處理介質,可有效避免樣品的再污染。在擺脫海外等離子清洗器價格比較貴、無法營銷推廣等缺陷的基礎上,借鑒國內外現有CRFplasma設備的優現有CRFplasma設備的優勢,結合國內用戶的需求,采用先進的技術手段研發出新系列等離子清洗器。
? ? ? ? 一般說來,國內配置的等離子清洗機的性能已能滿足某些工件的加工要求。假如要求比較高的話,比如產品工件本身成本很高,或者產品工件本身對質量要求很高,可以選擇進口等離子機配置。除了其等離子清洗機外,CRFplasma設備還具有性能穩定、性價比高、清洗效率高、操作簡單、使用成本低、維護方便等優點。能夠滿足不同用戶對設備的特殊要求。清潔艙的材質有耐熱玻璃和不銹鋼兩種,不銹鋼類清潔艙有圓形和方形可選擇。儀表性能、整機規格、清洗艙尺寸可根據用戶實際需求定制。


CRF等離子清洗技術為什么誠峰智造的更更有效促進了集成電路加工
CRF等離子清洗技術為什么誠峰智造的更更有效促進了集成電路加工:
? ? ? ?目前,CRF等離子清洗技術已廣泛應用于新能源、新材料、生物醫學和航空等各個領域,一般來說,等離子清洗技術可以提高了商品質量,提高產量和加工效率。等離子體離子注入技術是一種新的、低成本的方法,它已經被成功地應用到多種材料的表面。而在加工領域中,離子在等離子清洗技術中能獲得足夠高的能量,能穿透材料表面與晶格原子發生碰撞,使材料表面的薄層產生新的化合物,形成新的金相結構。這種,通過等離子體源離子注入,可獲得性能優良、與膜基結合牢固的薄膜,從而獲得精密零件的表面性能。
? ? ? ? 隨著半導體技術的發展,由于其固有的局限性,濕法腐蝕逐漸限制了其發展,因為它不能滿足微米甚至納米細線超大型集成電路的加工要求。由于其離子密度高、蝕刻均勻、蝕刻側壁垂直度高、表面粗糙度高等優點,等離子清洗技術廣泛應用于半導體加工技術中。等離子清洗技術對多晶硅晶片有良好的蝕刻效果。等離子清洗機配備蝕刻部件,可實現蝕刻功能,性價比高,操作簡單,多功能。等離子體表面清洗活化后,可以試傳統材料表面得到改善,等離子清洗機處理后,可以提高了材料的表面張力和表面,為材料的后續加工和應用提供可能。等離子清洗技術可以更有效地處理芯片和封裝基片,可更有效地提高了基片表面活性,大大提高結合強度,減少芯片和基片的分層,改善導熱性能,提高了集成電路的可靠性、穩定性,延長產品的使用壽命。
? ? ? ?CRF等離子清洗技術的更有效應用促進了集成電路加工工藝的改進,更有效提高了了商品質量。以上資訊是關于等離子清洗技術的應用,讓我們有了更多更好的處理方法!深圳市誠峰智造有限公司,相信科技,相信未來,感恩有您的閱讀!


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